自動ご注文フォームで24時間いつでもご発注いただけます。
※祝日・年末年始等の長期休暇も通常営業
Indexed in the following public directories
ヶ月 | 論文発表 |
---|---|
0-3 | 4% |
4-6 | 57% |
7-9 | 29% |
>9 | 11% |
Plasma Science and Technology の創刊は 1999 年です。
Plasma Science and Technology の発行頻度は Monthlyです。
Plasma Science and Technology の出版社はIOP PUBLISHING LTDです。
Plasma Science and Technology の主な指標はEditage内の本ページ上部で確認できます。
Plasma Science and TechnologyのeISSN番号は2058-6272、pISSN番号は 1009-0630です。
このジャーナルはDielectric barrier discharge, Argon, Electron temperature, Electron density, Gas composition, Laser-induced breakdown spectroscopy, Germination, Simulation, Shock wave, Magnetic field, Atmospheric pressure, Pulsed plasma thruster, Aqueous solution, Plasma density, Corona discharge, Kinetic theory, Semiconductor plasma, Laser-induced fluorescence, Reactive oxygen species, Radio frequencyを含むトピックに対応しています。
適切なジャーナルを選ぶことで、あなたの研究内容がもっと関連性が高い読者層に届き、研究のインパクトやその分野への貢献度を最大化させることができるからです。
はい、著名なジャーナルから出版することは、あなたの経歴にもプラスに働くため、その後の助成金やキャリアプランにも影響があります。
ハイインパクトジャーナルから出版することはより多くの人の目に研究が触れることになりますが、同時に高い競争率の中から出版に漕ぎつける必要があります。そのため、インパクトファクターと出版にかかる工数のバランスを考慮するべきです。