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ヶ月 | 論文発表 |
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4-6 | 33% |
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Materials Science in Semiconductor Processing の創刊は 1998 年です。
Materials Science in Semiconductor Processing の発行頻度は Monthlyです。
Materials Science in Semiconductor Processing の出版社はELSEVIER SCI LTDです。
Materials Science in Semiconductor Processing の主な指標はEditage内の本ページ上部で確認できます。
Materials Science in Semiconductor ProcessingのeISSN番号は1873-4081、pISSN番号は 1369-8001です。
このジャーナルはHeterojunction, Room temperature, Nanosheet, Photoluminescence, No removal, Operating temperature, Gallium nitride, Photocatalytic degradation, Spinel, Particle size, Chemical composition, Silicon nanowires, Zinc oxide thin films, Simulation, Band gap, Monolayer, Silicon carbide, Ultraviolet, Cadmium sulfide, Hydrogen productionを含むトピックに対応しています。
適切なジャーナルを選ぶことで、あなたの研究内容がもっと関連性が高い読者層に届き、研究のインパクトやその分野への貢献度を最大化させることができるからです。
はい、著名なジャーナルから出版することは、あなたの経歴にもプラスに働くため、その後の助成金やキャリアプランにも影響があります。
ハイインパクトジャーナルから出版することはより多くの人の目に研究が触れることになりますが、同時に高い競争率の中から出版に漕ぎつける必要があります。そのため、インパクトファクターと出版にかかる工数のバランスを考慮するべきです。